美國Sutter公司的BV-10-B磨超微電極裝置設計簡單易用，在整個操作過程中其*的研磨板驅動系統可以迅速完成玻璃電極的研磨，能精密打磨斜面及直徑在0.1和50µm之間的玻璃電極。磨板旋轉平穩，基座配有磁力耦合，旋轉速度約60rpm。且通過磨超微電極裝置研磨的斜面玻璃電極，一方面降低了玻璃電極對細胞的穿透阻力，幾乎能直接進入，另一方也能穿透非常小或困難的細胞。顯微鏡下用注射針頭也受益于斜面，能以較小的損傷進入細胞。

   《主要應用》

   美國Sutter公司的BV-10-B磨超微電極裝置適用于電生理實驗用玻璃電極、細胞內外記錄電極、微注射等各種玻璃微電極。

  《主要特點》

   2無振動，斜面表面磁耦合

   2磨盤表面為半波長（250nm）光學平面

   2采用好的磨料

   2同步時鐘電動機確保穩定呢的轉速

   27磅重的底座增加了額外的振動阻尼

   2配有LED燈

   2配有能控制打磨的精度和角度的微操作器

   《主要參數》

   1、打磨范圍：0.1-50µm

   2、打磨的差異：小于1.0µm

   3、打磨速度：60RPM

   4、打磨角度：5-90度可調

   5、微操作器：粗調1.9mm，微調0.01mm

   6、電極電阻測量儀測量范圍：0-10，0-100，0-500Ω。